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不知道如何提高X荧光光谱仪的机械强度?进来看

更新时间:2022-11-11点击次数:465
   X荧光光谱仪包括一个光学平台,可大大减少杂散光并提高机械和温度稳定性。这个新的光学平台具有双内置模式消除器和多级复合抛物面反射镜,因此杂散光减少至0.04%,是标准光谱仪的2.5倍。除了显着改善杂散光之外,这种新的光学平台还将光谱仪的机械强度提高了10倍以上,从而使其对机械变形和温度变化的敏感性降低。
 
  X荧光光谱仪的低杂散光特性使其特别适合需要测量高吸光度的应用,例如高化学浓度,高光密度光学组件和长光程测量。这种新型的光学平台和光谱仪既适用于OEM应用又适用于单仪器应用。该仪器具有较低的杂散光(400nm下为0.015%)效果,并且在可见光范围(360-825nm)内具有良好的颜色测量效果,从而提高了低照度下测量的灵敏度和处理效果。
 
  1、具有良好的热稳定性,其性能可与科研级光谱仪相媲美,可以选择以满足各种应用挑战。
 
  2、使用变节距凹面光栅。这种设计使光谱系统更加有效。中心光栅线密度为550(+/-2)标线/mm,标称火焰波长为400nm。
 
  3、配备的凹面光栅非常有助于提高其热稳定性。在较宽的温度范围内进行测量。结果,几乎没有波长漂移,并且峰形具有良好的保留效果。因此,在要求低杂散光和热稳定性的精密测量,荧光测量或吸光度测量中。
 
  4、该仪器测量能力适用于要求宽测量范围,低杂散光,高处理效率和良好热稳定性的各种应用:
 
  (1)大气中的痕量气体成分。
 
  (2)光学致密物质溶液的吸光度。
 
  (3)LED/激光和其他光源的精密测量。
 
  (4)组织医学辐射和生物介质的测量。
 
  (5)固体表面荧光的测量溶液和粉末中的反向散射/荧光溶液。